使用氰基亚硫酰基(CYS)作为羧酸保护基防止肽合成过程中的DG重排和天冬酰胺的形成

目前多肽的合成技术已经很成熟，但是在多肽合成过程中有时会发生DG重排或者天冬氨酸酰胺化，导致杂质峰离目标峰很贴近，而很难纯化甚至无法分离。从而导致产率降低，为解决此类问题，今天介绍一种Asp的侧链保护基，氰基亚硫酰基，简称CYS。此类方法可有效的减少DG重排和Asp酰胺化导致的杂质，大大提高合成，纯化效率。

后面关于DG重排和Asp酰胺化等类似副反应，统称为D酰胺化。

一和二为目前常用策略，三为今天推荐的保护基策略。

简称OtBu,氨基酸缩写Asp(OtBu),结构如下。

在一些特殊序列中，此类方法容易发生消旋和产生杂质，如下图所示

如使用Fmoc-Asp(OtBu)-(Dmb)Gly-OH和Fmoc-Asp(OtBu)-(Hmb)Gly-OH

Dmb：二甲氧基苄基

Hmb：2-羟基-4-甲氧基-苄基

此类方案确实可以减少D酰胺化的几率，（通常添加HOBT或其它添加剂来进一步降低副反应几率），不过偶联效率很低，必须以二肽为单元结构进行偶联。且不能非常有效的阻止D酰胺化这一副反应。

这也是小编今天想要介绍的有效方案。

1，氰基亚硫酰基的形成

2，氰基亚硫酰基的去除

3，效果对比展示

4，实例展示(CSY保护基团运用于替度鲁肽的合成)

氰基亚硫酰基保护基团的方案在一些实验数据中，已体现出其消除D酰胺化副反应的强大作用（降低副反应至可忽略的范围），研究此领域的老师，可以尝试一下。